Frist abgelaufen
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
- Angebotsfrist
- 16.09.26, 12:00 Uhr
- Auftraggeber
- Fraunhofer ENAS
- Ort
- Chemnitz, Sachsen
- Veröffentlicht
- 29.08.2026
- Verfahren
- Öffentliche Ausschreibung
Leistungsbeschreibung
Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können.
teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Zuschlag / Ergebnis
Ein verifizierbares Zuschlagsergebnis liegt uns noch nicht vor.
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Archivierte Bekanntmachung. Maßgeblich sind die Originalbekanntmachung und Vergabeunterlagen.