Frist abgelaufen
ALD-Anlage
- Angebotsfrist
- 01.09.26, 13:00 Uhr
- Auftraggeber
- Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.
- Ort
- Jena, Thüringen
- Veröffentlicht
- 26.08.2026
- Geschätzter Auftragswert
- 461.344 €
- Laufzeit
- 28.08.2026 – 05.09.2027
- Verfahren
- Offenes Verfahren
Leistungsbeschreibung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Eignungsanforderungen
- s. Eigenerklärung
- Als Nachweis zu den bestehenden Erfahrungen sind mind. 2 Referenzen, vorzugsweise aus dem Forschungsumfeld aus den vergangenen 3 Jahren zusammen mit dem Angebot einzureichen.
Zuschlag / Ergebnis
Los LOT-0001: Zuschlag erteilt (Gewinnername nicht veröffentlicht) für 456.249 € · 07.09.2026.
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