Frist abgelaufen

Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration

Teilnahmefrist
07.07.26, 12:00 Uhr
Auftraggeber
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
Ort
Frankfurt (Oder), Brandenburg
Veröffentlicht
05.06.2026
Verfahren
Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb

Originalunterlagen ↗

Leistungsbeschreibung

Gegenstand der [siehe Bekanntmachung] ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.

Eignungsanforderungen

  • Beschreibung des vorgesehenen Projektteams (optional in dieser Phase) (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung):
  • Eigenerklärung zur Eignung und Leistungsfähigkeit (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung):
  • Referenzen (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung): Mindestens 2-3 relevante Referenzprojekte im Bereich CVD-System-Upgrades oder Halbleiteranlagenmodifikationen
  • Unternehmensprofil (technische Schwerpunkte, Kernkompetenzen) (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung):
  • Beschreibung der relevanten technischen Expertise (Mit dem Teilnahmeantrag; Mittels Eigenerklärung):

Zuschlag / Ergebnis

Ein verifizierbares Zuschlagsergebnis liegt uns noch nicht vor.

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Archivierte Bekanntmachung. Maßgeblich sind die Originalbekanntmachung und Vergabeunterlagen.